国产芯片14nm工艺已经攻克难关!很快就可以量产了!

现在,芯片自主的研发已经成为大家关注的焦点,甚至国家也开始重视起来。国内科研人员目前集体努力的方向,就是在这个领域寻求更大的突破和发展。在昨天举行的“极大规模集…

现在,芯片自主的研发已经成为大家关注的焦点,甚至国家也开始重视起来。国内科研人员目前集体努力的方向,就是在这个领域寻求更大的突破和发展。

在昨天举行的“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”活动上,集成电路专项技术总师叶甜春对外表示,国产14nm工艺已经攻克难关,将在明年投入量产。

叶甜春强调,通过2万科技工作者9年的艰苦攻关,终于研制成功14nm刻蚀机、薄膜沉积等30多种高端装备和靶材、抛光液等上百种材料产品,性能达到国际先进水平,且通过了大生产线的严格考核,开始批量应用并出口到海外,实现了从无到有的突破,填补了产业链空白。同时,制造工艺与封装集成由弱渐强,技术水平飞速跨越,国际竞争力大幅提升。

此外,叶甜春还给出了接下来国产芯片的发展规划,“十三五”将重点支持7-5nm工艺和三维存储器等国际先进技术的研发。之前产业链给出的消息称,中芯国际已经开始启动7nm工艺制程研发,并与北方华创、中微建立了长期合作关系。目前,三星、TSMC及Intel已经完成了7nm工艺研发,准备在2018年后量产。国产芯片14nm工艺已经攻克难关!很快就可以量产了!

那么,什么是14nm的工艺呢?

这里的“NM”指的是MOS晶体管的栅极长度。这个长度用于表征集成电路的集成度高低,尺寸越小,代表每个晶体管所占面积越小,那么集成度就越高。国产芯片14nm工艺已经攻克难关!很快就可以量产了!

那么,”NM”的数值的大小有什么作用呢?

“NM”的数值越小,就代表这款处理器的集成度越高,代表更先进的制造工艺。

更先进的制造工艺会在处理器内部集成更多的晶体管,使处理器实现更多的功能和更高的性能。

更先进的制造工艺还会减少处理器的功耗,从而减少其发热量,还能提升处理器的性能。国产芯片14nm工艺已经攻克难关!很快就可以量产了!

更先进的制造工艺是如何做到减少处理器的功耗和提升处理器的性能的呢?

  1. 缩减元器件之间的距离之后,晶体管之间的电容也会更低,从而提升它们的开关频率。那么,由于晶体管在切换电子信号时的动态功率消耗与电容成正比,所以,它们才可以在速度更快的同时,做到更加省电。

  2. 这些更小的晶体管只需要更低的导通电压,而动态功耗又与电压的平方成反比,这时能效也会随之提升。


当然,制造商们对于“极限”的追求是永无止境的。或许在不远的将来,我们就能迎来量产版的“单原子大小”工艺制程的芯片了。

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